国产光刻机发展怎么样了?图解光刻机发展历程

解毒者

2021-08-25 20:28科技领域爱好者
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近日,英特尔与美国防部联手,全力打造芯片制造生态系统。全球芯片荒已近一年,各种芯片均有不同程度涨价,芯片制造自主性已成为各国共识,上升为国家战略,我国更是订下在2025年实现芯片自产率70%的目标。

芯片生产工艺复杂,而光刻是重要的一环,光刻机和光刻胶是光刻必须的设备,且成为了中国芯片制造的“卡脖子”技术,那么我国的国产光刻机发展怎么样了呢?

目前,国内主要有:上海微电子所、上海集成电路研发中心(ICRD),两家光刻机整机整合企业。

上海微电子所正在研发制造28纳米光刻机,预计今年年底可交货,2022年可在芯片工厂达成量产。需要指出的是,该方案未能完全去除美芯片技术,且其更新迭代到14nm、7nm预计还需要两三年时间。该光刻机采用193纳米的光源,一次曝光可直接生产90nm、65nm、28nm等各种制程芯片,配合多层曝光技术,可批量生产14nm、7nm芯片。

上海集成电路研发中心隶属于上海华虹集团,目前研制的光刻机目标是完全去除美技术,预计在2024年可以交货,之后两年可在芯片工厂实现28nm批量导入生产,而14nm、7nm光刻机研发还需再等两三年技术迭代。

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