还得看华为！芯片专利已公布，没有光刻机的事儿
科技笛笛2021-02-08 23:28
为什么EUV光刻机如此难以突破
国产芯片自主的问题由来已久，依然是因为缺少EUV光刻机，它属于精密设备，构造极为复杂，糅合了多个国家最顶尖的技术和零配件，比如美国的EDA软件、德国的蔡司光源、瑞士的数控机床等等。在去年上海进博会上，光刻巨头ASML曾公开表态，即便给我们图纸，也没办法制造出来。
可我国市场对芯片的需求却是与日俱增，近两年的芯片进口值均超过了3000亿美元，尤其是华为这样的国产科技企业，几乎各项业务都离不开芯片。
面对软件、硬件的断供，华为非但没有低头，反而是奋起反抗，在营收降低的情况下，却又加大了自主研发的费用投资，宣布踏入重资产的芯片制造领域，更是建立了绕开美国技术的芯片厂。
以传统的眼光来看，若想突破芯片困境，就必须攻克EUV光刻机。在中科院等国内顶尖科研机构宣布入局“光刻“任务后，国内一度掀起了轰轰烈烈的造芯潮。
华为公布芯片专利
以外界的眼光来看，华为除了等待高端光刻机的到来之外并无他法。然而，在近日，华为公开了一项芯片专利，让西方媒体直呼不可思议，因为这次真没有光刻机的事儿。
据悉，这项芯片专利是有关“光计算芯片”、系统及数据处理的相关技术。众所周知，传统的硅芯片在工艺水平上即将达到物理极限，也就是摩尔定律，面对这样的情况，全球各大半导体企业都在积极寻求新的载体。光芯片的出现，在一定程度上打破了传统硅芯片的束缚。
光芯片是利用光的特性实现驱动的功能，比如抗干扰性更强、传播速度更快等等，从而形成了一个可以完成大型综合计算的芯片。值得强调的是，光芯片与硅芯片有着本质的区别，制造方面无需依赖ASML的高端EUV光刻机。据科研人员的测试结果显示，光芯片在运算速度上比硅芯片提升了50%，功耗方面却只有硅芯片的1/100。
其实对于光芯片的研发，华为早有准备，今年1月份，俄媒就曾引用ASML曝光的内容，声称华为一边着手光芯片的推进，一边又给外界释放出全力进军光刻机的信号，为的就是避免光芯片再次受到美国的干扰。
在我们为华为鸣不平的同时，也不得不佩服华为的韧性和智慧。
在传统半导体领域，西方牢牢把握着核心基础技术的优势，但硅时代已近尾声。正是为了避免国产芯片在未来的发展过程中再次被“卡脖子”，华为才继续加大研发、率先申请并公布光芯片的专利，夹缝之中做到未雨绸缪。
写在最后
华为之于中国，就像微软之于美国、三星之于韩国，其重要性不言而喻，更何况华为还肩负着5G建设的重任。
在国产芯片的困境之时，还得看华为！
举报/反馈
0
0
收藏
分享
