为什么EUV光刻机如此难以突破
国产芯片自主的问题由来已久,依然是因为缺少EUV光刻机,它属于精密设备,构造极为复杂,糅合了多个国家最顶尖的技术和零配件,比如美国的EDA软件、德国的蔡司光源、瑞士的数控机床等等。在去年上海进博会上,光刻巨头ASML曾公开表态,即便给我们图纸,也没办法制造出来
可我国市场对芯片的需求却是与日俱增,近两年的芯片进口值均超过了3000亿美元,尤其是华为这样的国产科技企业,几乎各项业务都离不开芯片。
面对软件、硬件的断供,华为非但没有低头,反而是奋起反抗,在营收降低的情况下,却又加大了自主研发的费用投资,宣布踏入重资产的芯片制造领域,更是建立了绕开美国技术的芯片厂。
以传统的眼光来看,若想突破芯片困境,就必须攻克EUV光刻机。在中科院等国内顶尖科研机构宣布入局“光刻“任务后,国内一度掀起了轰轰烈烈的造芯潮。
华为公布芯片专利
以外界的眼光来看,华为除了等待高端光刻机的到来之外并无他法。然而,在近日,华为公开了一项芯片专利,让西方媒体直呼不可思议,因为这次真没有光刻机的事儿
据悉,这项芯片专利是有关“光计算芯片”、系统及数据处理的相关技术。众所周知,传统的硅芯片在工艺水平上即将达到物理极限,也就是摩尔定律,面对这样的情况,全球各大半导体企业都在积极寻求新的载体。光芯片的出现,在一定程度上打破了传统硅芯片的束缚
光芯片是利用光的特性实现驱动的功能,比如抗干扰性更强、传播速度更快等等,从而形成了一个可以完成大型综合计算的芯片。值得强调的是,光芯片与硅芯片有着本质的区别,制造方面无需依赖ASML的高端EUV光刻机。据科研人员的测试结果显示,光芯片在运算速度上比硅芯片提升了50%,功耗方面却只有硅芯片的1/100。
其实对于光芯片的研发,华为早有准备,今年1月份,俄媒就曾引用ASML曝光的内容,声称华为一边着手光芯片的推进,一边又给外界释放出全力进军光刻机的信号,为的就是避免光芯片再次受到美国的干扰。
在我们为华为鸣不平的同时,也不得不佩服华为的韧性和智慧。
在传统半导体领域,西方牢牢把握着核心基础技术的优势,但硅时代已近尾声。正是为了避免国产芯片在未来的发展过程中再次被“卡脖子”,华为才继续加大研发、率先申请并公布光芯片的专利,夹缝之中做到未雨绸缪。
写在最后
华为之于中国,就像微软之于美国、三星之于韩国,其重要性不言而喻,更何况华为还肩负着5G建设的重任。
在国产芯片的困境之时,还得看华为!
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科技笛笛

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见证国产芯片的崛起,加油
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