已确保3nm芯片工艺良品率稳定,三星的技术趋势有何特征?

齐鲁壹点

发布时间: 10-1314:05齐鲁晚报齐鲁壹点官方帐号

近日,三星电子宣布,其已确保3nm制程工艺良品率稳定,并在明年6月份开始量产。据悉,三星电子的3nm工艺,采用全环绕栅极晶体管(GAA)技术。

据公开资料显示,目前在推进3nm工艺的另一家,是当前全球最大的芯片代工商台积电,在近几个季度的财报分析师电话会议上,台积电CEO魏哲家均透露他们的这一工艺在按计划推进,计划今年下半年风险试产,明年大规模量产。

根据智慧芽数据显示,截至最新,三星电子及其关联公司在126个国家/地区中,共有702553件专利申请(详见图1),其中,发明专利占84.54%。从专利趋势上来看,三星电子的专利趋势呈现波浪形,2002年至2009年之间,三星年专利申请量最高年份为2006年,申请量为3万9千余件。在2010年到2017年,三星年专利申请量最高的年份为2013年,申请量为3万3千余件。而最近几年的专利申请基本上维持在2万件左右。此外,根据智慧芽专利目标市场国的数据可知,三星电子专利主要分布于以下国家/地区,它们分别是韩国、美国、中国、中国台湾、德国等地区(详见图2)。

图1:三星电子公司专利趋势

图2:三星电子公司专利目标市场国

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